IBM paskelbė sukūrusi technologiją, leidžiančią dar labiau sumažinti integrinių mikroschemų grandynus. Pasinaudodami gerai žinoma ir plačiai naudojama optinės litografijos technologija, IBM inžinieriai iš San Jose laboratorijos (Kalifornija) paskelbė, kad sugebėjo sukurti mikroschemas, turinčias vos 29,9 nanometrų pločio laidininkų takelius, tuo metu kai šiuo metu masinės gamybos mikroschemų takeliai yra 90 nm pločio.

Kaip sakė Dr. Robert Allen iš IBM Almadeno tyrimų centro, tai labai svarbus pasiekimas, nes jis reiškia, kad kol kas pramonei nereikės keisti mikroschemų gamybos technologijų. 'Šis pasiekimas įrodo, kad pramonė dar kokius septynis metus galės 'laisvai kvėpuoti', prieš tai, kai pasirodys, kad tolesnei mikroschemų gamybos pažangai reikalingi radikalūs technologijų pokyčiai', - pažymėjo mokslininkas.

CBS News

Tik prisijungę skaitytojai gali rašyti komentarus.
Prašome prisijungti (pirmame puslapyje).